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rie製程
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(12)發明說明書公開本(11)公開編號:TW 201834183 A
使用例如CVD的習知沉積. 製程沉積介電材料或金屬層110於基板100上。使用習知. 沉積、微影及蝕刻製程(例如,RIE),形成柱體120於材料.
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