... 蝕刻製程終點endpoint 以避免因蝕刻不足或蝕刻過度導致元器件本發明的技術原理為首先以定時間間隔採集即時光信號強度從而獲得多個即時光反應離子蝕刻英文: ,或簡寫為RIE ...
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