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rie蝕刻原理
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電漿蝕刻原理: 原理及良率剖析每日頭條>「面板製程刻蝕」史上 ...
... 蝕刻程序,可分為物理性蝕刻離子表面轟擊與反應離子蝕刻英文: ,或簡寫為RIE是種半導體生產加工工藝,它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標 ...
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