你即將離開本站

並前往http://web.nuu.edu.tw/~hsuch/download/semiconductor_technology5.pdf

半導體製程技術 - 聯合大學

反應式離子蝕刻(RIE). ▫ 物理蝕刻和化學蝕刻的組成. ▫ 電漿製程, 離子轟擊加上自由基. ▫ 名稱有誤導的嫌疑，應該稱作離子輔助蝕刻(ion assistant etch, IAE).

確定！ 回上一頁

查詢 「rie原理」的人也找了：

  1. icp rie原理
    2.
  2. ICP RIE
    3.
  3. icp rie差異
    4.
  4. RIE Etching
    5.
  5. rie中文
    6.
  6. rie製程
    7.
  7. icp蝕刻原理
    8.
  8. ICP etching
    9.