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電子材料 - 第 162 頁 - Google 圖書結果

三極 RIE ,利用兩個 RF 電源,以便控制電漿的產生及離子的能量。 ... 極 RIE 的概略圖反應離子電漿蝕刻機( reactive - ion plasma etcher )的工作原理,是以射頻電力( RF ...

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