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轉載:ICP工藝的基本原理是什麼@ Chinganchen的部落格 - 隨意窩

一個RF POWER產生並維持plasma，令一個RF POWER產生偏置引導正離子轟擊表面。 ... 如圖（1）所示，傳統電漿中反應器的基本結構為兩電極板，各連接高頻 ...

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