你即將離開本站

並前往https://www.edntaiwan.com/20180426nt01-photolithography/

193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - 電子技術設計

然後就是Off-Axis Illumination，讓光學系統的主光軸和照明方向不一樣，光源斜著打。 這個原理也比較直觀，就是盡可能的捨棄一些Mask的空間低頻成分，讓 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「reticle mask差異」的人也找了：

  1. Reticle size
    2.
  2. Reticle field layout
    3.
  3. 半導體光罩製程ppt
    4.
  4. Reticle Mask
    5.
  5. reticle中文
    6.
  6. 光罩費
    7.
  7. 光罩 製作 公司
    8.
  8. rfl光罩
    9.