追溯至製程發現半導體廠的濕式製程中使用過氧化氫(H2O2) 搭配無機酸鹼用來清洗晶圓, ... 由廢水管排放(Drain)到廢水槽集中處理後排放,或由經回收管路回收(Reclaim)再 ...
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