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硅片化学清洗介绍 - 北极星太阳能光伏网

在HF / O3清洗、干燥工艺后形成的硅片H表面(H-terminal) 在其以后的工艺流程中可按要求在臭氧气相中被重新氧化. 五. 总结. 1. 用RCA法清洗对去除粒子 ...

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