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降低硅片表面微粗糙度的预氧化清洗工艺3

层后,能基本消除O H - 对硅片表面的各向异性腐蚀,清洗后的表面微粗糙度比清洗前小,并且随SC21 清洗 ... 本文利用预氧化的清洗方法,即在RCA 清洗前 ... 工艺流程如下:.

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