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电气设备行业周报：异质结TCO设备：RPD与PVD比较

PVD ）磁控溅射法沉积速率高，重复性好，可在大面积衬底上均匀成膜，是目前技术成熟度最高、应用最广泛的ITO 薄膜制备方法。目前设备的供应公司主要有 ...

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