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原子層沉積系統原理及其應用

ALD 有別於一般傳統化學氣相沉. 積(chemical vapor deposition, CVD) 的成長方式，. 前驅物(precursors) 依序地被引進反應腔體裡面，. 藉由前驅物在基材表面的飽和化學 ...

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