在一實施例中,其中該腔室部件是ESC,該中間層412是二氧化矽,以減少工作件吸附期間的漏電流。如第3F圖所示,具有氧化釔基層位於二氧化矽層上方(“PRD H-Y 2 O 3 ”)之範例 ...
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