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pmma製程
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電子束微影技術及其在奈米科技上之應用
(CF4) 的活性離子蝕刻中的蝕刻選擇比約較PMMA. 大2.5 倍(9)。 在負型阻劑方面,於微機電製程中常用之SU-. 8 系列光阻經由適當地調整其配方成分後,亦可成.
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