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半導體製程設備技術 - 第 203 頁 - Google 圖書結果

... 選擇適當的蝕刻氣體搭配被蝕刻基材,即是我們所常見的各類乾式蝕刻設備。固態液態氣態電漿 Energy (電能)反應前產物反應後副產物 Plasma 圖4.2 乾式電漿蝕刻腔體 ...

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