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新世代記憶體的蝕刻挑戰與解決方案 - 電子工程專輯

Lam Research與UCLA合作研究了不同化學性質的氫(H2)，氫是一種具有吸引力的氣體，因為Ge、Sb和Te會形成揮發性氫化物，但發現它會選擇性地蝕刻Sb和Te， ...

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