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PECVD:詳細信息,綜述,優點,缺點,幾種裝置 - 中文百科全書

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指電漿增強化學的氣相沉積法。這種方法有很多優點，比如成膜 ... 設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；.

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