你即將離開本站

並前往https://cptft.mcut.edu.tw/p/412-1019-3976.php?Lang=zh-tw

先進化學鍍膜實驗室

本無塵實驗室的電漿輔助化學氣相沉積系統 (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)，以矽甲烷 (SiH4) 為主要反應氣體。大面積電感式耦合電漿PECVD ...

確定！ 回上一頁

查詢 「pecvd設備」的人也找了：

  1. pecvd原理
    2.
  2. pecvd製程
    3.
  3. CVD 設備
    4.
  4. SAMCO PECVD
    5.
  5. LPCVD
    6.
  6. PECVD
    7.
  7. pecvd中文
    8.
  8. ALD
    9.