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應用材料公司PECVD 5.7™ | Applied Materials

應用材料公司PECVD5.7設備系統是一個單基板製程處理系統，擁有7個獨立的反應腔體，圍繞在一個中央傳送模組周圍。它的特色在於能使得非晶矽和微晶矽沉積反應腔都是個別獨立 ...

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