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可移轉技術 - 金屬工業研究發展中心

如用於電漿輔助化學氣相沈積設備(PECVD)相關製程，如太陽能(a-Si、 HIT等製程)、半導體設備沉積製程、石墨烯、奈米薄膜等，可增加鍍膜之均勻度與沉積速率，協助廠商 ...

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