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PECVD 化學氣相沉積

本公司推出的PECVD 是一部單腔制程的電漿輔助化學氣相沉積系統，適用於200mm晶圓製造以及Ⅲ-Ⅴ族晶圓制程，可沉積製造薄膜包括氮化矽(SiNX) 和氮化矽氧化矽(SiO2) 碳化矽( ...

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