井(Well)之形成(1)犧牲氧化層(SAC Oxide)之成長:如圖 6-14 所示,先用稀釋的氫氟酸(Dilute HF)把 pad oxide 蝕刻掉,此乃因經過前面的幾個程序後的 pad oxide 已有損壞 ...
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