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淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰

術(LOCal Oxidation of Silicon, LOCOS) ... 決CMP過研磨時所造成的溝渠內氧化矽磨蝕窪陷(Trench Oxide Dishing)的製程瓶 ... Pad Oxide Removal. Removed by CMP.

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