你即將離開本站

並前往https://www.eettaiwan.com/20181115ta71-euv-overlay-control/

EUV微影和Overlay控制詳解 - 電子工程專輯

Overlay 是IC製造中的關鍵參數之，其意義是當層與前層圖案(pattern)間對 ... 條)的微影光罩的估計數量，以及不同製程技術(橙色線)的overlay允許誤差。

確定！ 回上一頁

查詢 「overlay overlap差異」的人也找了：

  1. Overlay overlap
    2.