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HMI eBeam以及YieldStar是確保微影設備生產效能的關鍵： ...

Tool）則是在晶圓曝光後，通過快速且高精準度的電子束量測方法，在1~2奈米的尺寸下分析晶片結構，檢驗圖形曝光的準確性，同時將測量的數據傳送回前端， ...

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