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利用微影区域迭对测量仪监控硅单晶外延层层错状况的方法

[0018] 本发明就是利用迭对测量仪（Overlay)来量测测试晶片（control wafer)上的大量标记（mark)来检测沉淀单晶外延（exposition印itaxial silicon)时所带来的层 ...

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