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正型光阻劑造句

半導體 制程常用的正型光阻劑，在光學曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑成像大部分圖形為上窄下寬，無法經一次曝光方式即得到Overhang的圖形 ...

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