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TWI525463B - 改善製造半導體元件之微影製程的設計特徵分析法

101‧‧‧GDS或是OASIS格式的設計資料 ... 法以改善半導體元件之微影製程的方法，所述方法包括以下步驟：根據一晶片設計資料製造複數個晶圓；檢測該等晶圓，以產生複數個 ...

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