設備概要 - 黃光工程(Photo Resist HMDS 顯影液 薄膜等) - 蝕刻工程(HNO3 HF Al-Etch ITO-Etch等) - 剝離工程(剝離液等) - 洗淨工程(H2SO4 H2O2 NH4OH HCI IPA等)
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