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化合物半导体磊晶厂现况与未来发展观察
若以量产速率分析MOCVD和MBE磊晶设备的优缺点,MOCVD为气相方式导入反应腔体,其速度较MBE快1.5倍(MBE需时间加热形成分子束);但以磊晶质量来说,由于MBE ...
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