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光刻返工引起的MIM电容失效机理和解决方案 - 维普

针对由金属-绝缘体-金属（MIM）电容金属层光刻返工引起的产品成品率下降10%的问题,开展了一系列工艺实验,分析了引起失效的机理并提出了改进措施。

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