可適用於高階載板之微影曝光、micro LED 之巨量移轉、功率元件. 原子層沉積(ALD)等製程設備,同時已取得終端廠之合作測試意願。 1. 高階載板微影曝光設備須滿足曝光精度≦ ...
確定! 回上一頁