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淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰

本文將探討STI製. 程中CMP相關的問題。 STI製程中化學機械研磨. 技術挑戰. 相較於傳統LOCOS製程，STI製. 程較為繁複及不易控制，如圖一所. 示。其中包括墊氧化層成長及氮化 ...

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