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193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - 電子技術設計

比LELE可以節省些步驟。這一類多重曝光的特點就是流程簡單粗暴，很早就有人嘗試應用，但一個最大的問題就是，後一次光刻和前一次的對準問題，這幾乎是 ...

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