本實驗採用光阻與二氧化矽兩種遮. 罩,經過七道ICP-RIE 蝕刻的製程步驟,製作兩種. 結構厚度。所有製程步驟均在ICP-RIE 乾蝕刻製程. 機台中完成,單一種製程及無濕蝕刻黏著 ...
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