RIE ,全稱是Reactive Ion Etching,反應離子刻蝕,一種微電子乾法腐蝕工藝。 是乾蝕刻的一種,這種蝕刻的原理是,當在平板電極之間施加10~100MHZ的高頻電壓(RF ...
確定! 回上一頁