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反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etcher, RIE)

儀器負責人：黃宗鈺老師分機：4672 地點：電漿薄膜中心2館1F產學製程實驗室. 儀器原理：. 在半導體製程中，蝕刻（Etch）被用來將某種材質自晶圓表面上 ...

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