你即將離開本站

並前往https://www.tonsontec.net/plasma-etching/

等离子蚀刻机-等离子刻蚀机| 深圳市东信高科自动化设备有限公司

感应耦合等离子体刻蚀法（Inductively Coupled Plasma Etch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「icp etching原理」的人也找了：

  1. ICP etching
    2.
  2. icp原理
    3.
  3. icp ccp plasma差異
    4.
  4. 感應耦合電漿蝕刻
    5.
  5. reactive ion etching原理
    6.
  6. icp rie差異
    7.
  7. rie蝕刻
    8.
  8. backside helium原理
    9.