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7 Plasma Basic 7 Plasma Basic

蝕刻(Etch). •物理氣相沉積(PVD). 離子轟擊(I I l t ti ) ... Plasma Etch. •氧化物蝕刻中(CF. 4. )被使用在電漿中產生 ... ICP 為具有高電漿密度低氣體壓力(high.

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