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PECVD去除二氧化矽與RIE的區別是什麼？ - 微百科

RIE ：Reactive Ion Etching, 作為蝕刻用途，那麼需要一個向下轟擊的 ... 答：由於ICP與PECVD的工藝原理有差別，所有PECVD一般沒有DC BIAS和VPP的 ...

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