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反應式離子蝕刻機RIE - ishien vacuum 部落格- 痞客邦

反應式離子蝕刻機RIE（Reactive Ion Etching）介紹【蝕刻原理】 在半導體製程中，蝕刻（Etch）被用來將某種材質自晶圓表面上移除。蝕刻通常是利用腐蝕 ...

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