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VCSEL 技術原理與應用 - 第 177 頁 - Google 圖書結果

為避免形成兩段式蝕刻側面,可行的解決方法有兩種,其一為乾式活性離子蝕刻之後再輔以磷酸— ... 同時改用感應耦合電漿活性離子蝕刻(ICP-RIE)設備來改善乾式蝕刻製程。

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