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「蝕刻升級篇」剖析干蝕刻和濕蝕刻的作用、製程及其原理

除了RIE及ICP機台，MEMS製程最常用到的還有DRIE模式。一、反應離子刻蝕RIE（Reactive Ion Etching）反應離子刻蝕機，是一台非金屬材料刻蝕設備。

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