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智芯研報| 從g-Line 到EUV，探究ASML如何造就市場護城河

第二代光刻機光源是i-Line，波長為365nm，同樣可以滿足0.8-0.25 微米製程 ... 光源通過掩模，經光學鏡頭調整和補償後以掃描的方式在矽片上實現曝光。

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