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半导体光刻工艺及光刻机全解析

一般旋涂光刻胶的厚度与曝光的光源波长有关（因为不同级别的曝光波长对应不同的光刻胶种类和分辨率）：. I-line最厚，约0.7～3μm；KrF的厚度 ...

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