你即將離開本站

並前往https://www.edntaiwan.com/20180426nt01-photolithography/

193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - 電子技術設計

接下來是另一類聰明一點的多重曝光，可以統稱為SADP(Self-Aligning Double Patterning)。 例如Side Wall Transfer就是核心的實現方式。主要是利用第一層 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「i-line曝光機」的人也找了：

  1. i-line光阻
    2.
  2. g-line i-line
    3.
  3. I line g line H line
    4.
  4. i-line stepper
    5.
  5. g line波長
    6.
  6. i-line duv
    7.
  7. ghi line波長
    8.
  8. Ghi line
    9.