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光罩服务 - 中芯国际

... 趨近效應修正技術(OPC)，為客戶提供二元鉻版光掩模以及相位移動光掩模。5"×5"和6"×6"的光掩模均可用於G-line，I-line，深紫外線DUV及ArF步進曝光機和掃描曝光機。

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