為曝光。 ◇微影基本製程. ➢光阻覆蓋. ➢曝光 ... 優點:以接觸式方式這種曝光機對晶片執行曝光時,光罩 ... i line (光源波長3650A). ◇新的製程所用的光源波長KrF ...
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