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4.1 厚膜光阻製程

曝光機 光源強度(mW/cm. 2. ) 本實驗室之曝光機Ushio HB - 2510313Y - C 為例，其為I-line. (365nm) 波段，能量密度為40mW/ cm. 2. ，若所需曝光劑量1200.

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