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從光刻技術發展看半導體技術路線| 科技

其中，隨著工藝演進，光刻波長經歷了幾次大的更迭，i-line時期使用的波長為365nm，KrF時期使用的波長為248nm，ArF時期使用的波長為193nm，進入EUV時代 ...

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